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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展橢偏儀是一種常見而重要的光學(xué)工具,用于測(cè)量和分析偏振光的性質(zhì)和參數(shù)??梢酝ㄟ^測(cè)量偏振光經(jīng)過樣品后的振幅比值、相位差和偏振橢圓的形狀來對(duì)光進(jìn)行分析。這些參數(shù)可以反映樣品的偏振性質(zhì)、介質(zhì)特性以及光與物質(zhì)之間的相互作用等信息。結(jié)構(gòu)和工作原理:1、光源和偏振器:通常采用穩(wěn)定且具有已知偏振方向的光源,如激光器或白光源,并通過偏振器產(chǎn)生單一方向的偏振光,以確保測(cè)量的準(zhǔn)確性和一致性。2、波片系統(tǒng):波片系統(tǒng)包括一個(gè)固定波片和一個(gè)旋轉(zhuǎn)波片。通過旋轉(zhuǎn)波片,可以實(shí)現(xiàn)偏振光的相位調(diào)節(jié),從而獲得不同偏...
查看詳情反射膜厚儀是一種用于測(cè)量薄膜材料厚度的儀器,用于確定薄膜材料的厚度。它通過測(cè)量光在膜層上的反射特性來確定膜層的厚度,具有非接觸、高精度和快速測(cè)量的優(yōu)勢(shì)。它在光學(xué)、電子和材料科學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,并不斷受到科研人員和工程師的關(guān)注與使用。工作原理基于光學(xué)干涉的原理,利用光的波長和相位差來計(jì)算膜層的厚度。儀器通常采用雙束干涉或多束干涉的方式進(jìn)行測(cè)量。在雙束干涉中,一束光經(jīng)過樣品表面反射,另一束光直接被檢測(cè)器接收。兩束光的干涉產(chǎn)生干涉條紋,通過分析干涉條紋的變化可以確定薄膜的厚度。...
查看詳情橢偏儀是一種用于測(cè)量光學(xué)器件傳輸特性的重要工具。它通過測(cè)量光的偏振狀態(tài),可以分析和測(cè)量材料的光學(xué)性質(zhì)以及檢測(cè)光學(xué)元件的效能?;诠獾钠裥再|(zhì)進(jìn)行測(cè)量和分析,其原理主要包括以下幾個(gè)方面:1、偏振光產(chǎn)生:使用偏振光源產(chǎn)生線偏振光,通常采用偏振片或激光二極管等裝置產(chǎn)生偏振光。2、光束調(diào)制:通過偏振片和波片,可以調(diào)整光束的偏振狀態(tài)和光程差,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)光的操控和調(diào)節(jié)。3、檢測(cè)與測(cè)量:光束經(jīng)過待測(cè)樣品后,再次經(jīng)過波片和偏振片的調(diào)節(jié),通過檢測(cè)器進(jìn)行光強(qiáng)的檢測(cè)和測(cè)量。4、數(shù)據(jù)分析:根據(jù)測(cè)量得...
查看詳情隨著科技的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)大,對(duì)薄膜材料的需求也日益增加。薄膜在光電子、半導(dǎo)體、光學(xué)涂層等眾多領(lǐng)域中都發(fā)揮著關(guān)鍵作用,因此準(zhǔn)確測(cè)量薄膜厚度成為了一項(xiàng)重要任務(wù)。為滿足這一需求,光學(xué)薄膜測(cè)厚儀應(yīng)運(yùn)而生。一、原理:光學(xué)薄膜測(cè)厚儀基于光學(xué)干涉原理,利用光波在不同介質(zhì)中傳播速度不同的特性進(jìn)行測(cè)量。當(dāng)光波經(jīng)過薄膜表面時(shí),部分光波將被反射,而另一部分則穿透薄膜并與底襯基板上的反射光波相干疊加。通過控制入射角度或者波長,可以觀察到干涉現(xiàn)象,從而推導(dǎo)出薄膜的厚度信息。二、工作方式:該測(cè)厚...
查看詳情光學(xué)薄膜測(cè)厚儀是一種用于測(cè)量薄膜厚度的儀器,廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域。以下是使用該測(cè)厚儀的基本步驟和注意事項(xiàng):1、準(zhǔn)備工作首先要確認(rèn)所要測(cè)試的樣品尺寸,并按照規(guī)定的方式進(jìn)行安裝。檢查設(shè)備是否處于正常工作狀態(tài),例如燈光是否亮著、顯示屏是否正常顯示等。2、校準(zhǔn)儀器在使用前需要對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)以保證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性。具體校準(zhǔn)方法可以參考儀器操作手冊(cè)或者生產(chǎn)廠家提供的說明書。通常需要使用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校準(zhǔn)。3、設(shè)置參數(shù)根據(jù)樣品的特點(diǎn)設(shè)置相應(yīng)的參數(shù)。主要包括激光功率、測(cè)量范圍、測(cè)試...
查看詳情薄膜厚度測(cè)試儀是一種用于測(cè)量物體表面膜層厚度的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域中,如電子、光學(xué)、材料等。在制造工業(yè)中,精確地控制膜層厚度對(duì)產(chǎn)品的性能和功能至關(guān)重要。本文將介紹該儀器的原理、應(yīng)用和使用方法。一、原理是基于光學(xué)原理或電磁感應(yīng)原理。光學(xué)的是通過測(cè)量材料表面反射光的干涉來確定薄膜厚度,它利用光波在不同厚度的薄膜中產(chǎn)生相位差的特性進(jìn)行測(cè)量。電磁感應(yīng)的則根據(jù)感應(yīng)電磁場(chǎng)的變化來測(cè)量薄膜厚度。二、應(yīng)用該測(cè)試儀被廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域。在半導(dǎo)體行業(yè)中,被用于測(cè)量晶片表面上的氧化物或金屬敷層...
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